真空镀膜：用于制备硅单晶膜的CVD装置

图10-28示出了用于外延生长的硅单晶膜的简化的CVD设备。该器件在高温下在硅衬底上外延生长硅单晶膜。可以产生均匀的薄膜层，薄膜厚度为1mu，m〜2mu，m。